Dec 29, 2022 Laat een bericht achter

Wat zijn de vereisten voor het doelmateriaal voor tantaalpoeder?

In de afgelopen jaren heeft de halfgeleidertechnologie zich snel ontwikkeld en is de vraag naar tantaal dat wordt gebruikt als sputterfilm geleidelijk toegenomen. In geïntegreerde schakelingen wordt tantaal tussen silicium- en koperen geleiders geplaatst als een diffusiebarrière. Productiemethoden voorsputterende tantaaldoelenomvatten ingotmetallurgie (I/M) en poedermetallurgie (P/M). Tantaaldoelen met lagere vereisten zijn over het algemeen gemaakt van tantaalstaven. In sommige gevallen met hogere eisen kan de I/M-methode echter niet worden gebruikt en kan de poedermetallurgiemethode alleen worden gebruikt om deze te produceren. De I/M-methode kan bijvoorbeeld geen legeringsdoelen produceren vanwege de verschillende smeltpunten van tantaal en silicium en de lage taaiheid van siliciumverbindingen.

Tantalum Powder manufacturer
Tantaal poeder

Stoffen die het halfgeleiderapparaat vervuilen, mogen niet aanwezig zijn in de filmvorming. Wanneer de sputterfilm wordt gevormd en er onzuiverheden in het tantalium (legering, verbinding) doelwit zijn, zullen de onzuiverheden in de sputterkamer worden geïntroduceerd, waardoor grove deeltjes zich aan het substraat hechten en het dunne-filmcircuit kortsluiten. Tegelijkertijd kunnen onzuiverheden ook de reden zijn voor de toename van uitstekende deeltjes in de dunne film. Onzuivere gassen zoals zuurstof, koolstof, waterstof en stikstof in het doel zullen abnormale verschijnselen veroorzaken en problemen veroorzaken in de uniformiteit van de gevormde film. Bovendien is voor de poedermetallurgiemethode de uniformiteit van de afgezette film een ​​functie van de korrelgrootte in het doel, en hoe fijner de korrel in het doel, hoe uniformer de verkregen film. Daarom is er in de techniek behoefte aan tantaalpoeders en tantaaldoelen van hoge kwaliteit. Om tantaalpoeder en tantaaldoelwit van hoge kwaliteit te verkrijgen, is het daarom noodzakelijk om het gehalte aan onzuiverheden in tantaalpoeder te verminderen en de zuiverheid van tantaalpoeder te verhogen.

Sputtering Tantalum Targets Factory
Sputterende tantaaldoelen

Baoji Yusheng Metal Technology Co., Ltd. kan producerentantaal poedersvan verschillende deeltjesgroottes. Onder de premisse van het waarborgen van hoge kwaliteit, heeft ons bedrijf een compleet assortiment tantaalmetaalpoeders, die kunnen voldoen aan de behoeften van verschillende klanten op het gebied van onderzoek en ontwikkeling, testen, productie, consumptie, enz. behoefte.

Aanvraag sturen

Huis

Telefoon

E-mail

Onderzoek