Sputterende Tantaaldoelen

Het doelmateriaal is het doelmateriaal voor deeltjesbombardementen met hoge snelheid. Door verschillende doelmaterialen te vervangen (zoals aluminium, koper, roestvrij staal, titanium, nikkel, enz.), kunnen verschillende filmsystemen worden verkregen (zoals superharde, slijtvaste, anti-corrosielegeringsfilm, enz.). Tantaalsputterdoel wordt voornamelijk gebruikt in de elektronica- en informatie-industrie, zoals geïntegreerde schakelingen, informatieopslag, liquid crystal display, lasergeheugen, elektronische besturingsapparatuur, enz.; het kan ook worden gebruikt op het gebied van glascoating; het kan ook worden toegepast op slijtvaste materialen, corrosiebestendigheid bij hoge temperaturen, hoogwaardige decoratieve benodigdheden en andere industrieën.

Aanvraag sturen

product Introductie

Gesputterde tantaaldoelen kunnen worden onderverdeeld in vierkante doelen, ronde doelen en gevormde doelen, afhankelijk van hun vorm. Magnetronsputteren is een nieuwe fysieke dampfasecoatingmethode die in veel opzichten aanzienlijke voordelen biedt ten opzichte van verdampingscoatingmethoden. Als volwassen technologie is magnetronsputteren op veel gebieden toegepast. Het maakt gebruik van ionen die worden gegenereerd door een ionenbron, die worden versneld en verzameld in een vacuüm om een snelle energie-ionenbundel te vormen die een vast oppervlak bombardeert, waar de ionen en de atomen op het vaste oppervlak kinetische energie uitwisselen, waardoor de atomen op het vaste oppervlak worden gebombardeerd. het vaste oppervlak om de vaste stof te verlaten en zich op het substraatoppervlak af te zetten.

Verschillende soorten gesputterde dunne-filmmaterialen worden veel gebruikt voor geïntegreerde halfgeleidercircuits, fotovoltaïsche zonne-energie, opnamemedia, platte beeldschermen en oppervlaktecoatings voor werkstukken. Koperen doelen - geleidende lagen, zeer zuivere kopermaterialen worden in grote hoeveelheden gebruikt als bedradingsmateriaal in het sub 110 nm-gedeelte van de technologie vanwege hun zeer lage weerstand, wat zeer effectief is tegen het verbeteren van de chipintegratie.

Productdetails

Merk	Yusheng Metaal
Productnaam	Tantaal sputterdoel
Zuiverheid	99.95%
Dikte	95-99%
Specificatie	Lengte<300 mm ; Width<300 mm Diameter<300 mm; Thickness<1 mm
Tolerantie	±0.1 mm
Oppervlak	3.2Ra
MOQ	1KG

Onze sputterende tantaaldoelen

Baoji Yusheng Metal Technology Co., Ltd.

Tantaaldoeltoepassing

Condensatoren
Ongeveer de helft van het tantaal dat jaarlijks wordt verbruikt, wordt gebruikt in de elektronica-industrie, voornamelijk als poeder en draden voor condensatoren. Tantaalcondensatoren hebben de voorkeur in ruimtegevoelige hoogwaardige toepassingen zoals telecommunicatie, gegevensopslag en implanteerbare medische apparaten.

Motor turbinebladen
Het hoge smeltpunt en de corrosieweerstand van het metaal maken het geschikt voor legeringstoepassingen. Tantaal wordt ook gebruikt als additief voor op nikkel gebaseerde legeringen voor hoge temperaturen, en de belangrijkste toepassing ervan zijn turbinebladen voor vliegtuigmotoren en gasturbines op land.

Chemische verwerkingsapparatuur
De hoge corrosieweerstand en hoge temperatuurbestendigheid van Tantaal maken het metaal tot een ideaal constructiemateriaal voor containers, pijpen, kleppen en warmtewisselaarvoeringen in de chemische en farmaceutische industrie.

Tantaal Target Alloy-serie
Naast tantaaldoelen kunnen we ook sputterdoelen leveren zoals tantaal siliciumlegering, tantaal aluminiumlegering, tantaal wolfraam legering, nikkel tantaal legering, kobalt zirkonium tantaal legering, tantaal nitride, tantaal carbide, tantaal boride, tantaal pentoxide, etc.

Producten tonen

product-4776-1398

product-4776-1194

product-4776-1182

Uitrusting weergeven

product-1477-390

product-1447-391

product-1446-408

Als voor uw project tantaaldoelen of andere prestatiematerialen van tantaallegeringen nodig zijn, neem dan contact met ons op en wij geven u een offerte en beantwoorden uw vragen binnen 24 uur!