Sputterdoelen van wolfraam-titanium

Wolfraam titanium sputterdoelen:

Onze wolfraam-titanium sputterdoelen worden geproduceerd met behulp van de allernieuwste poedermetallurgische productietechnieken. Wij bieden WTi-sputterdoelen in verschillende maten, tot een diameter van 400 millimeter. Wij behoren tot de eerste fabrikanten die WTi zowel als roterend doel als als planair doel hebben ontwikkeld. Het titaniumgehalte van onze WTi-doelen is doorgaans 10% per gewicht.

Sputterdoelen van wolfraam-titanium

Wolfraam-titanium legering

Toepassingsgebieden voor wolfraam-titanium:
Wolfraam-titanium (WTi), dat 10 gewichtsprocent titanium bevat, wordt gebruikt als metallisatielijm en diffusiebarrière in microchips. In dit geval wordt WTi gebruikt om de metallisatie- en halfgeleiderlagen, zoals koper van silicium of aluminium van silicium, te scheiden. Zonder diffusiebarrières zouden silicium en koper samen een intermetallische fase in microchips creëren, wat de prestaties van de halfgeleider in gevaar zou brengen. Een WTi-barrièrelaag wordt gebruikt in flexibele dunne-filmzonnecellen (CIGS) om te voorkomen dat ijzerionen door het molybdeen-achtercontact naar de halfgeleider diffunderen. De efficiëntie van CIGS-zonnecellen kan al met slechts enkele g/g ijzer aanzienlijk worden verminderd.

a. Poedermetallurgie wordt gebruikt om sputterdoelen van wolfraam-titanium te maken, die op grote schaal worden gebruikt bij de productie van halfgeleiders en dunne-filmzonnecellen.

b.WTi 10 gew.% dunne film wordt in halfgeleidertoepassingen gebruikt als adhesielaag en diffusiebarrière om de metallisatielagen van de halfgeleider te isoleren, zoals koper of aluminium van silicium. Als gevolg hiervan kan de transistorfunctie in microchips aanzienlijk worden verbeterd.

c.WTi10wt% dunne film wordt ook gebruikt in dunne film zonnecellen als barrièrelaag om te voorkomen dat ijzerionen van het stalen substraat naar het molybdeen-achtercontact en de CIGS-halfgeleider diffunderen. Doelen gemaakt van wolfraam-titanium worden ook gebruikt om gereedschappen en LED's te bedekken .

In de twee figuren wordt een flipchip-halfgeleidermetallisatie met behulp van WTi-lagen getoond onder de schematische constructie van een CIGS-zonnecel aan de linkerkant.

De kwaliteit van de laag neemt toe naarmate de coatingsubstantie zuiverder is. Om het hoogste niveau van materiaalzuiverheid te garanderen, gebruiken we alleen het zuiverste poeder en mengen we dit vanaf het begin in onze eigen faciliteiten. Van het poeder tot het eindproduct houden we elke fase nauwlettend in de gaten om er zeker van te zijn dat alleen doelen met de nauwkeurig gegarandeerde dichtheid, zuiverheid en een homogene microstructuur onze fabriek verlaten.

Onze fabriek is in staat doelen te vervaardigen met WTi 90/10 gew.%, WTi 85/15 gew.% en wolfraam-titanium sputterdoelen met een speciale samenstelling die kunnen worden aangepast. De dichtheid van de werkelijke doelen is> 99% en de typische korrelgrootte is 100um. Eindgebruikers kunnen constante erosiesnelheden en een zeer zuivere en homogene dunne filmcoating bereiken tijdens het PVD-proces met een zuiverheid tot 4N5 en een speciale gloeibehandeling, uniforme korrelgrootte en een lager gasgehalte.

Als u vragen of wensen heeft, neem dan gerust contact met ons op.

 

 

NEEM CONTACT MET ONS OP

Verkoopmanager:

Contactpersoon: Li Fengwu

Email: kd@tantalumysjs.com

Tel: 13379388917

Fax: 0917-3139100

Postcode: 721013

Website: https://www.tantalumysjs.com/

Toevoegen: Wenquan dorp industriële zone, Gaoxin Development Zone, Baoji City, provincie Shaanxi, China

Populaire tags: wolfraam titanium sputterdoelen, leveranciers, fabrikanten, fabriek, aangepast, kopen, prijs, offerte, kwaliteit, te koop, op voorraad