Hoogzuivere Niobium-doelen

Niobium is een gebroken wit metaal met een smeltpunt van 2468 graden, een kookpunt van 4742 graden en een dichtheid van 8,57 g/cm³. Niobium is een glanzend grijs metaal dat paramagnetisch is en behoort tot groep 5 op het periodiek systeem. Hoogzuiver niobiummetaal is zeer kneedbaar, maar naarmate het onzuiverheidsgehalte stijgt, wordt het harder. Niobium heeft een lage vangstdwarsdoorsnede voor thermische neutronen en is daarom van groot nut in de nucleaire industrie.

Aanvraag sturen

product Introductie

Rangen: R04200, R04210

Zuiverheid: groter dan of gelijk aan 99,95 procent, 99,99 procent

Standaard: ASTM B393

Dichtheid: 8.57g/cm3

Productbeschrijving: Toepassing: Supergeleidende industrie Voor de productie van niobiumfolie Hitteschild in een hogetemperatuuroven Voor de productie van met niobium gelaste buizen Voor de productie van menselijke implantaten.

Status: hard, zacht

Niobium doelproces: koudwalsen, beitsen, scheren

Product applicatie:

Het niobium doelmateriaal is belangrijk voor dunne filmmateriaal. De uiteindelijke zuiverheid van het niobium-doelmateriaal kan meer dan 99,95 procent bereiken, de korrelgrootte is klein, de herkristallisatiestructuur is goed en de triaxiale consistentie is goed. Als kathodisch sputterdoel is de oxidefilm die het vormt van uniforme kwaliteit, reageert niet met andere stoffen in de lucht en heeft een langdurig beschermend effect. Niobium-sputterdoelen worden veel gebruikt in optische vezels, halfgeleiderchips en geïntegreerde schakelingen.

Specificaties: diameter (50-400)mm * dikte (3-28) mm

Zuiverheid: 99,9 procent

Chemische samenstelling(%)
Cijfer	Hoofdingrediënten	Onzuiverheidsgehalte（ Kleiner dan of gelijk aan ）
Nb	Fe	Si	Ni	W	Mo	Ti	Ta	O	C	H	N
Nb1	bali	0.004	0.004	0.002	0.005	0.005	0.002	0.05	0.012	0.0035	0.0012	0.003
Nb2	bali	0.01	0.01	0.005	0.02	0.01	0.004	0.07	0.015	0.0050	0.0015	0.008

dikte	Dikte toleranties:	breedte	Breedte toleranties:	lengte	lengte toleranties:
0.1~0.2	±0.015	20-1000	±2.0	20-2000	±2.0
0.2-0.3	±0.02	20-1000	±2.0	20-2000	±2.0
0.3-0.5	±0.03	20-1000	±2.0	20-2000	±2.0
0.5-0.8	±0.04	20-1000	±2.0	20-2000	±2.0
0.8-1.0	±0.06	20-1000	±2.0	20-2000	±2.0
1.0-1.5	±0.08	20-1000	±1.0	20-2000	±1.0
1.5-2.0	±0.10	20-1000	±1.0	20-2000	±1.0
2.0-3.0	±0.12	20-1000	±1.0	20-2000	±1.0
3.0-5.0	±0.15	20-1000	±1.0	20-2000	±1.0
5.0-8.0	±0.18	20-1000	±1.0	20-2000	±1.0
8.0-12.0	±0.20	20-1000	±1.0	20-2000	±1.0
12.0-15.0	±0.50	20-1000	±1.0	20-2000	±1.0
15.0-2.0	±0.80	20-1000	±1.0	20-2000	±1.0

Het belangrijkste voordeel van onze zeer zuivere niobium-targets is dat ze films verkrijgen met een uitstekende geleidbaarheid en deeltjesminimalisatie tijdens fysieke dampafzetting. De volgende tabel is een certificaat van samenstellingsanalyse voor 3N5 zeer zuivere niobiumdoelen. De toegepaste analysemethoden: 1. het gebruik van ICP-OES om metalen elementen te analyseren; 2. Gebruik LECO voor analyse van gaselementen.

High-Purity Niobium Targets Factory